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光刻機(jī)/紫外曝光機(jī) (Mask Aligner)
光刻機(jī)又名:掩模對(duì)準(zhǔn)曝光機(jī),曝光系統(tǒng),光刻系統(tǒng),紫外曝光機(jī)等。ECOPIA為全球領(lǐng)先的半導(dǎo)體設(shè)備供應(yīng)商,多年來(lái)致力于掩模對(duì)準(zhǔn)光刻機(jī)和勻膠機(jī)研發(fā)與生產(chǎn),并且廣泛應(yīng)用于半導(dǎo)體、微電子、生物器件和納米科技領(lǐng)域;該公司是目前世界上最早將光刻機(jī)商品化的公司之一,擁有雄厚的技術(shù)研發(fā)力量和設(shè)備生產(chǎn)能力;并且其設(shè)備被眾多著名企業(yè)、研發(fā)中心、研究所和高校所采用;以優(yōu)秀的技術(shù)、精湛的工藝和良好的服務(wù),贏得了用戶的青睞。
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光學(xué)薄膜測(cè)厚儀
薄膜表面或界面的反射光會(huì)與從基底的反射光相干涉,干涉的發(fā)生與膜厚及折光系數(shù)等有關(guān),因此可通過(guò)計(jì)算得到薄膜的厚度。光干涉法是一種無(wú)損、精確且快速的光學(xué)薄膜厚度測(cè)量技術(shù),我們的薄膜測(cè)量系統(tǒng)采用光干涉原理測(cè)量薄膜厚度。 該產(chǎn)品是一款價(jià)格適中、功能強(qiáng)大的膜厚測(cè)量?jī)x器。近幾年,每年的全球銷售量都超過(guò)200臺(tái)。根據(jù)型號(hào)不同,測(cè)量范圍可以從10nm到250um,它最高可以同時(shí)測(cè)量4個(gè)膜層中的3個(gè)膜層厚度(其中一層為基底材料)。該產(chǎn)品可應(yīng)用于在線膜厚測(cè)量,測(cè)氧化物、SiNx、感光保護(hù)膜和半導(dǎo)體膜,也可以用來(lái)測(cè)量鍍?cè)阡摗X、銅、陶瓷和塑料等上的粗糙膜層。
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掃描開(kāi)爾文探針
開(kāi)爾文探針(Kelvin Probe)是一種非接觸無(wú)損震蕩電容裝置,用于測(cè)量導(dǎo)體材料的功函數(shù)(Work Function)或半導(dǎo)體、絕緣表面的表面勢(shì)(Surface Potential)。材料表面的功函數(shù)通常由最上層的1-3層原子或分子決定,所以開(kāi)爾文探針是一種最靈敏的表面分析技術(shù)。主要型號(hào):KP020 (單點(diǎn)開(kāi)爾文探針),SKP5050(掃描開(kāi)爾文探針)。
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WEP CVP21電化學(xué)C-V剖面濃度測(cè)量?jī)x
德國(guó)WEP公司的CVP21電化學(xué)C-V剖面濃度測(cè)試儀可高效、準(zhǔn)確的測(cè)量半導(dǎo)體材料(結(jié)構(gòu),層)中的摻雜濃度分布。選用合適的電解液與材料接觸、腐蝕,從而得到材料的摻雜濃度分布。電容值電壓掃描和腐蝕過(guò)程由軟件全自動(dòng)控制。 電化學(xué)ECV剖面濃度測(cè)試儀主要用于半導(dǎo)體材料的研究及開(kāi)發(fā),其原理是使用電化學(xué)電容-電壓法來(lái)測(cè)量半導(dǎo)體材料的摻雜濃度分布。電化學(xué)ECV(CV-Profiler, C-V Profiler)也是分析或發(fā)展半導(dǎo)體光-電化學(xué)濕法蝕刻(PEC Etching)很好的選擇。CVP21電化學(xué)C-V剖面濃度測(cè)量?jī)x適用于評(píng)估和控制在半導(dǎo)體生產(chǎn)中的外延過(guò)程并且以被使用在多種不同的材料上,例如:硅、鍺、III-V族化合物半導(dǎo)體(如GaN)。
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金剛石劃片機(jī) (Diamond Scriber)
德國(guó)尤尼坦RV系列金剛石手動(dòng)劃片機(jī)(Diamond Scriber),適用于陶瓷、玻璃、半導(dǎo)體晶圓等多種材料劃片。主要型號(hào)包括:精確手動(dòng)晶圓劃片機(jī)RV-129,低成本手動(dòng)劃片機(jī)RV-126等。
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半自動(dòng)球焊機(jī)/鍥焊機(jī) (Wire Bonder)
Wire Bonding是微電子及半導(dǎo)體器件的常用工藝,WB-200半自動(dòng)焊線機(jī)可進(jìn)行球焊、鍥焊、跳焊(Pump)等焊線工藝。
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真空共晶爐
德國(guó)尤尼坦真空共晶爐、燒結(jié)爐,緊湊臺(tái)式設(shè)計(jì),可在氮?dú)?甲酸等氛圍操作,廣泛用于激光、射頻電路、功率器件等微電子光電子行業(yè)的晶粒貼裝,以及金-硅合金,密集焊接和回流共晶。
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回流焊爐
德國(guó)尤尼坦回流焊爐主要用于研究開(kāi)發(fā)和小規(guī)模生產(chǎn)
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RTP-1200快速退火爐
韓國(guó)Ecopia公司生產(chǎn),最大樣品尺寸:15mm X 20mm。RTP-1200特點(diǎn):使用單相電,普通照明電即可使用;風(fēng)冷設(shè)計(jì)、無(wú)須采購(gòu)冷水機(jī);真空退火,可以使用氫氮混合氣(<10%比例氫氣)。
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RTP-100快速退火爐
德國(guó)優(yōu)尼坦公司生產(chǎn),最大樣品尺寸:4英寸晶圓或者100mm x 100mm尺寸樣品,RTP-100支持惰性氣體保護(hù)、低真空或高真空快速熱處理。
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RTP-150快速退火爐
德國(guó)優(yōu)尼坦公司生產(chǎn),最大樣品尺寸:6英寸晶圓或者156mm x 156mm尺寸樣品,RTP-150可以支持惰性氣體保護(hù)、低真空或高真空快速熱處理。
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VPO-300快速退火爐
德國(guó)優(yōu)尼坦公司生產(chǎn),最大樣品尺寸:12英寸晶圓或300mm x 300mm尺寸樣品,VPO-300支持惰性氣體保護(hù)、低真空、或高真空快速熱處理。
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